HappyPole

 

繡花圈　Grip Ring

 

 

提供能扣緊的強化塑膠繡花圈
四種大小尺寸，提供繡花圈題籠，四種大小尺寸
   
   
   
   

 

 

Techvision

　Technovision公司成立於1987年，在半導體、微電子顯示器工業中提供創新、先進的配備，
　齊主要針對於半導體的洗淨領域及IC封裝技術機器設備的發展及製造，
　並提供最適合的技術，產品及售後服務以滿足客戶各種需求。
　晶圓貼片機　Wafer Mounter
　1. 將晶圓貼到膠膜上不會產生氣泡
　2. 配備水平及圓形刀子去切開不用的膠膜
　3. 自動分離膠膜保護膜（分離器分離紙）
　4. 可分150mm（6"）,200（8"）,300mm（12"）.
　5. 簡單易保養的設計

 

 

 

 



 FM-224　切割製程用　For dicingprocesses
 
　迅速的將晶圓貼在膠膜框架上，適合所有的切割框架，
　有效的切割及減少對框架傷害的特殊設計迅速
　
 
   
   
   
FM-224　上片膠膜用　For diebonding film
 
 
　適合具有不同溫度特性的上片膠膜使用，且能很精確的從晶圓的圓周膠膠膜切下
 
 
　
   
   
   
FM-224TF　雙膠膜配備用　For twin film
 
 
　此機可以使用兩捲膠膜，有黏性或無黏性，保護正面膠膜，或上片機使用膠膜
 
 
 
 
   
   
   
FM-903S　半自動晶圓貼片機　Semi-automatic Wafer Mounter
 
　操作者可以簡單放入及拿出工作物，
　此機型可以讓晶圓再黏貼時得到一定的穩定狀態，且也可以使用在200毫米（8吋）
　尤其是用在切割，他也可以將晶圓貼上保護膠膜或上片膠膜
 
 

 

高速黏膠消除機　UV Curing System
　兩種機型應用選擇：
　　１. 低壓水銀燈管機型
　　２. 高壓水銀燈管機型

　高速黏膠消除機是一個用在切割或背面研磨紙程中讓UV膠膜的黏著強度有效消除的工具，
　此機器可以利用　UV照射過程中，很簡單將晶粒或晶圓從膠膜脫離。
 UVC-512 High-pressure HgLamp Model
 
 
 
　
　1. 晶圓尺寸：可到300mm（12" ）
　2. 操作者只要簡單放置/拿開工作物，且打開/關閉工作台，
　　其它工作都是全自動
　3. 採用高壓水銀燈管，可產生峰值為365nm的高密度UV光
 
 
 
 
 
 
   
   
   
UVC-408 High-pressure Hg Lamp Model
 
 
　1. 晶圓尺寸：可到200mm（8"）
　2. 操作者只要簡單放置/拿開工作物，且打開/關閉工作台，
　　其它工作都是全自動
　3. 這小巧桌上型的機型採用高壓水銀燈管，可產生峰值為365nm
　　的高密度UV反光
 
 
 

　紫外線臭氧洗淨裝置　UV-Ozone Cleaning System
　紫外線臭氧洗淨裝置是一個能有效去除工作物表面的有機汙染及用於改變表面材質的機器，
　此裝置試點單的乾洗洗定裝置，最適合用在最後階段的洗淨。
1. 配備高密度的紫外線網狀燈管
2. 能很均勻的照射在工作物表面
3. 小巧堅固的設計
4. 單面洗淨（選配，雙面洗淨）
5. 簡單操作安全扣環
UV-208　　　　　　UV-312  
   
   
   

1. 洗淨晶圓，遮光模，玻璃基板，鏡片，光學零件
2. 樹脂材料表面的改變
3. 改善膠黏，鍍膜，印刷，焊接的接觸力
4. 改善工作物表面的濕度
5. 高密度的紫外線網狀燈管和電源供應器可分開購買
   

 

晶圓擴片機　Wafer Expander

 

很均勻的擴張已切割或破裂的晶圓，使它能達到所需晶粒與晶粒的距離，然後改善切割後的製程及晶圓的處理

 

 

 

 TEX-21
 
　1. 有不同種的擴張比率
　2. 可調整的擴張速度
　3. 配備溫度擴張台
　4. 擴張膠膜及晶圓可自動被固定的
   

 

　真空吸筆　Vacuum Pincette

 

　晶舟盒洗淨裝置　Cassette Cleaning System

 

　晶舟盒洗淨裝置TCC-810，是特別設計運用於晶圓運送晶舟盒的洗淨設備，
　小巧堅固的設計配備多種清除，洗淨污染的精密洗淨功能。

 

　晶舟盒洗淨裝置TCC-810，是特別設計運用於晶圓運送晶舟盒的洗淨設備，
　小巧堅固的設計配備多種清除，洗淨汙染的精密洗淨功能

 

FOUP洗淨裝置　FOUP Cleaning System
　此洗淨裝置特別適合洗淨300mm（12"）晶圓的容器-FOUP，
　Technovision的洗淨及乾燥技術成現在這簡單，兼顧機構鐘表露無遺。

 

 

 

　1. 有配備特殊門墊以防止水從門閂機構中侵入
　2. 用振盪方式提供兩種方向平穩及精確的洗淨
　3. 從近距離用強有力的噴水頭噴水洗淨
　4. 提供獨立的洗淨及乾燥空間
　5. 直立式的設計減少占地空間
   
   
   
   
　此機也可用於FOUP洗淨，
　尤其適合少量或多種產品的研究發展部門用。

　200mm（8"）FOUP盒：1個 / 150mm（6"）FOUP盒：2個
   
   

 

　遮光模洗淨裝置　Phootmask Cleaning System
　洗淨遮光模式改善生產良率不可或缺的事
　Technovision的洗淨及乾燥專業技術，幫助您在生產遮光模的任何程序中得到高標準的清潔
 TW-200
 
 
　
　1. 自動在遮光模兩面完成：洗淨＞潤濕＞乾燥
　2. 既使用特殊的刷子洗，也不會讓光罩圖面產生刮傷
　3. 遮光模的垂直式的放置及傳送，將得到最小的壓迫
　4. 最適合應用在少量或多種產品的研究發展部門用
 
 
 
 
 
   
TW-300
 
 
 
　1. 自動在遮光模兩面完成：洗淨＞潤濕＞乾燥
　2. 既使用特殊的刷子洗，也不會讓光罩圖面產生刮傷
　3. 遮光模的垂直式的放置及傳送，將得到最小的壓迫
　4. 最適合應用在少量或多種產品的研究發展部門用
 
 
 
 
 
   
   
TW-700
 
 
 
　1. 自動在遮光模兩面完成：洗淨＞潤濕＞乾燥
　2. 既使用特殊的刷子洗，也不會讓光罩圖面產生刮傷
　3. 遮光模的垂直式的放置及傳送，將得到最小的壓迫
　4. 最適合應用在少量或多種產品的研究發展部門用
 
 
　
   
TW-1000
 
　1. 遮光模：最大1300釐米*1700釐米
　2. 遮光模的垂直式的放置及傳送，將得到最小的壓迫
　3. 精確的洗淨，不會讓光罩圖面產生刮傷
　4. 更換不同遮光模洗淨時，只要選擇機器中的程式及可
　超級洗淨用加熱器　Super Clean Heater
　此加熱器能在瞬間加熱時不會造成液體的汙染，加熱器有QH及SH兩種系列：
　QH系列的加熱零件是純石英結構，故在超純電離子水使用。
　SH系列的加熱零件是316L不鏽鋼電鍍拋光結構，故在空氣及鈍器使用，此加熱器是很可以簡單的裝入系統中
　或生產線上。
 Ultra Pure DI Water heater
 
　1. 16種類型，供應加熱功率從1到36千瓦
　2. 石英及PTFE類是使用於液體部分
　3. 不沾水的結構
　4. 堅固，安全設計
   
   
   
Inter Gases/Clean Dry Air
 
　1. 六種類型，供應加熱功率從500到2400瓦
　2. 加熱的部分及流動途徑是由不鏽鋼及電子拋光製程
　3. 高效率安全堅固設計
　4. 加熱器的電子線路是使用30安培內部開關
   

 

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